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ASML明年將發佈新一代EUV光刻機 三星太子急赴荷蘭

2020-10-17 05:02 次閲讀
10月15日,據國外媒體報道,目前全球頂尖的光刻機生產商ASML正在研發第三款EUV光刻機,並計劃於明年年中出貨。
 
 
從其所公佈的信息來看,新款光刻機型號命名為TWINSCAN NXE:3600D,相比上一代產品,新款EUV光刻機生產效率將提升18%,曝光速度為30mj/cm²,每小時可處理160片晶圓。
 
有意思的是,在2019年的年報中,ASML便提到正在研發新一代EUV光刻機的計劃,不過並未透露具體型號,只是披露將在2022年初計劃出貨,2024年後大規模生產。而此次所公佈的EUV光刻機如果是2019年財報中提到的那款,那麼這款光刻機發布的計劃意味着已經提前了。
 
據ASML公佈的2020年第三季度財報來看,第三季度銷售額為40億歐元,淨利潤11億歐元,毛利率為47.5%,淨利潤為27.5%,新增訂單為29億歐元,其中有5.95億歐元來自4台EUV設備,平均售價為1.48億歐元。
 
EUV光刻機是當前7nm工藝以下必不可少的設備,全球僅有ASML能夠供應,且僅有台積電和三星掌握了7nm製程以下的芯片製作。
 
當前ASML所售出的兩款EUV光刻機型號分別為TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C,均採用13.5nm極紫外光源,曝光速度為20mj/cm²,每小時處理125片晶圓。
 
有意思的是,作為與台積電激烈競爭的三星,近日被韓媒報道稱,三星電子副會長李在鎔證實,已經正在與ASML進行談判,以推進與ASML的業務關係。
 
而幾個月之前,三星便已經宣佈,正在致力於開發EUV掃描技術,此次三星太子李在鎔前往荷蘭ASML,也是為了探討如何發展EUV技術。遊俠西城,李在鎔參觀了EUV設備的生產線。
 
顯然,從目前來看,三星已經提前介入了下一代EUV技術的爭奪當中,面對三星的出招,台積電方面又會如何應對呢?

本文由丹陽到香港快遞綜合報道,內容參考自ASML、Techweb,轉載請註明以上來源。
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